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高品質(zhì)石墨薄膜強(qiáng)度和導(dǎo)電性刷新紀(jì)錄

2025.08.12 科技日?qǐng)?bào) 張佳欣

  據(jù)最新一期《自然·通訊》雜志報(bào)道,韓國(guó)基礎(chǔ)科學(xué)研究所開(kāi)發(fā)出一種突破性方法,可制備出毫米級(jí)晶粒、鏡面般光滑的石墨薄膜。晶粒尺寸約為傳統(tǒng)人造石墨的1萬(wàn)倍,性能接近單晶石墨理論極限。這一成果有望推動(dòng)高品質(zhì)石墨在熱管理、電子器件、先進(jìn)電池等領(lǐng)域的應(yīng)用邁向新臺(tái)階。

  力學(xué)測(cè)試結(jié)果顯示,該石墨薄膜的楊氏模量達(dá)到969吉帕斯卡,拉伸強(qiáng)度1.29吉帕斯卡,接近單晶石墨的理論極限,平面熱導(dǎo)率高達(dá)2034瓦/米·開(kāi)爾文,超過(guò)銅的水平,電導(dǎo)率高達(dá)22500西門(mén)子/厘米,刷新了宏觀人造石墨的性能紀(jì)錄。

  

 。╝)建議的反應(yīng)路徑示意圖。(b)實(shí)驗(yàn)配置示意圖。(c)鏡面石墨膜的 AFM 高度圖像和 SEM 圖像。圖片來(lái)源:韓國(guó)基礎(chǔ)科學(xué)研究所

  石墨因優(yōu)異的電導(dǎo)率和熱導(dǎo)率,被廣泛用于電池負(fù)極、電磁屏蔽、催化和核技術(shù)等領(lǐng)域。但長(zhǎng)期以來(lái),傳統(tǒng)高溫處理聚合物薄膜或制備高取向熱解石墨的方法,得到的材料晶粒較小、密度不足、表面易起皺。這些缺陷制約了石墨在高端應(yīng)用中的潛力。

  針對(duì)這一難題,團(tuán)隊(duì)提出“多孔基底”策略,即在石墨生長(zhǎng)完成后,通過(guò)選擇性蒸發(fā)鎳-鉬合金中的鎳,形成海綿狀基底,從而顯著削弱了石墨與金屬表面的相互作用,也有效地消除了冷卻過(guò)程中的界面應(yīng)力,防止薄膜形成皺紋或扭結(jié)。

  新工藝可實(shí)現(xiàn)每秒6.2層的超高速生長(zhǎng),比傳統(tǒng)方法快20倍以上,適合大面積規(guī);a(chǎn)。此外,通過(guò)在金屬箔表面預(yù)先刻蝕圖案,還能將石墨薄膜定制成復(fù)雜形狀,例如用于機(jī)械測(cè)試的狗骨形試樣。這種可控性為定制化器件制造和實(shí)際應(yīng)用提供了新可能。

  該研究刷新了人造石墨的極限,使晶粒尺寸達(dá)到毫米級(jí),可媲美稀有的天然石墨晶體。但與天然材料不同,這種薄膜在形狀、厚度和純度上都能精確控制,標(biāo)志著材料設(shè)計(jì)與性能的重大飛躍。